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本發(fā)明適用于光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種多方位投影的投影儀標(biāo)定方法，包括：步驟S1，利用投影儀依次在標(biāo)靶周圍預(yù)置的N個(gè)指定方位投射預(yù)置的標(biāo)定圖案到標(biāo)靶平面，在每個(gè)指定方位用相機(jī)采集標(biāo)靶信息圖；步驟S2，處理各個(gè)指定方位下采集的標(biāo)靶信息圖，計(jì)算得到標(biāo)靶特征點(diǎn)的精確相位值，進(jìn)而得到投影儀圖像坐標(biāo)系中與所述標(biāo)靶特征點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的亞像素坐標(biāo)；步驟S3，利用得到投影儀圖像坐標(biāo)系下的亞像素坐標(biāo)和已知的標(biāo)靶特征點(diǎn)的三維世界坐標(biāo)X對(duì)所述投影儀進(jìn)行標(biāo)定，求得初始標(biāo)定參數(shù)；步驟S4，利用光束平差法對(duì)所述初始標(biāo)定參數(shù)和所述三維世界坐標(biāo)X進(jìn)行優(yōu)化，得到最終標(biāo)定參數(shù)。本發(fā)明提供的標(biāo)定方法使最終的標(biāo)定結(jié)果更加精確。

測(cè)量實(shí)驗(yàn)>測(cè)量方法>多方位投影標(biāo)定方法; 電子電器>投影設(shè)備>投影儀